Mask 15

Su combinación única de arcilla esméctica y ácido glicólico, purifica y elimina por completo todas las imperfecciones de la piel, disminuye el tamaño de los poros y reduce el exceso de sebo.

• 15% ÁCIDO GLICÓLICO: Es uno de los alfa-hidroxiácidos (comunmente conocido como “ácido de frutas”), esta micro-molécula fácilmente penetra en la piel y su pH ácido acelera la exfoliación, mediante la destrucción de los puentes de unión que mantienen las células muertas unidas
• BENTONITA: Arcilla altamente absorbente para las pieles saturadas de sebo. Al ser altamente efectiva, le permite eliminar toxinas e impurezas de los tejidos
• 2% ÁCIDO SALICÍLICO: Genera una acción queratolítica que reduce la cohexión intercorneocitaria y destruye los lípidos que se unen a las células externas de la epidermis. Tiene una acción anti-microbiana y anti-inflamatoria

INGREDIENTES
Aqua (Water), Glycolic Acid, Bentonite, Glyceryl Stearate, Kaolin, Cetyl Palmitate, Cetearyl Alcohol, Ethylhexyl Palmitate, Glycerin, CI 77891 (Titanium Dioxide), PEG-40 Stearate, Salicylic Acid, Disodium Cocoamphodiacetate, Cocamidopropyl Betaine, Xanthan Gum, Sodium Chloride, Sodium Glycolate, Tetrasodium EDTA, Octadecyl Di-T-Butyl-4-Hydroxyhydrocinnamate.

Aplica una capa fina y uniforme por todo el rostro. Deja actuar de 2 a 4 minutos, posteriormente aclara con agua. Utilízala una o dos veces a la semana.